台积电和三星均已投入5nm工艺的量产，前者代工的产品包括苹果A14、M1、华为麒麟9000等，后者则包括Exynos 1080、骁龙888等。

其实从7nm开始，台积电和三星就开始引入EUV光刻，但过程层数较少。按照ASML(阿斯麦)的说法，迭代到5nm后，EUV的层数达到了10~14层，包括但不限于触点、过孔以及关键金属层等过程。未来的3nm、2nm，对EUV的依赖将更甚。

根据最新数据显示，ASML在12月中完成了第100台EUV光刻机的出货。更加利好的消息是，业内预估ASML今年(2021年)的EUV光刻机产能将达到45~50台的规模。

毕竟，2019年ASML仅出货了26台，去年三季度后全年累计出货23台(全年预估35台)，可谓少得可怜。

另外，ASML定于明年中旬交付最新一代EUV光刻机TWINSCAN NXE:3600D，生产效率提升18%、机器匹配套准精度改进为1.1nm，单台价格或高于老款的1.2亿欧元(约合9.5亿元人民币)。(作者：万南)

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