芯片制造现在是许多国家难以逾越的鸿沟，其中不光是缺少光刻机等核心设备，光刻胶也是重要的一环。

因此，国内不少公司都在倾力推动光刻胶技术的研发，希望能解决目前几乎被日美企业垄断的局面。

近日，国内公司晶瑞电材在投资者互动平台表示，公司光刻胶产品达到国际中高级水准，在国内具有悠久声誉，稳定生产光刻胶近三十多年，是国内最早规模量产光刻胶的企业之一。

光刻胶是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一，高端产品的研发和生产主要由日系JSR、信越化学、东京应化等少数公司所垄断。

晶瑞电材称，公司承担并完成了国家02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目。公司为我国历史最悠久、供应量最大的光刻胶生产企业之一，产品序列齐全，产业化规模、盈利能力均处于行业领先水平。

其中g/i线光刻胶已向中芯国际、合肥长鑫等知名大尺寸半导体厂商供货，KrF(248nm深紫外)光刻胶完成中试，目前已进入客户测试阶段，测试通过后即可进入量产阶段。

ArF高端光刻胶研发工作已正式启动，旨在研发满足90-28nm芯片制程的ArF(193nm)光刻胶，满足当前集成电路产业关键材料市场需求。(作者：建嘉)

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