中华网数码

数码
设为书签Ctrl+D将本页面保存为书签,全面了解最新资讯,方便快捷。
业 界/ 互联网/ 行 业/ 通 信/ 数 码/ 手 机/ 平 板/ 笔记本/ 相 机
当前位置: 数码 > IT硬件 >

南大光电高端ArF光刻胶获得突破 用于55nm工艺制造

南大光电高端ArF光刻胶获得突破 用于55nm工艺制造
2021-06-02 10:30:42 来源:快科技

在半导体制造上,国内厂商需要突破的不只是光刻机等核心设备,光刻胶也是重要的一环。南大光电日前宣布,该公司研发的高端ArF光刻机已经获得了国内某企业的认证,用于55nm工艺制造。

南大光电于5月31日晚间发布公告,控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶继2020年12月在一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台上通过认证后,近日又在逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品上取得了认证突破,表明公司光刻胶产品已具备55nm平台后段金属布线层的工艺要求。

不过南大光电没有透露具体的客户名字。

在光刻机市场上,国内自给率极低,欧美日等地区厂商占据主要份额,JSR、信越化学等TOP5厂商占据全球87%的份额。

光刻胶有不同的技术类别,低端的中g线/i线光刻胶自给率约为20%,KrF光刻胶自给率不足5%,而高端的ArF光刻胶完全依赖进口,是国内半导体的卡脖子技术之一。

虽然南大光电的ArF光刻胶现在通过的是55nm工艺认证,但ArF光刻胶涵盖的工艺技术很广,可用于90nm-14nm甚至7nm技术节点制造工艺,广泛应用于高端芯片制造(如逻辑芯片、 存储芯片、AI芯片、5G芯片和云计算芯片等)。(作者:宪瑞)

责任编辑:kj005

文章投诉热线:156 0057 2229 投诉邮箱:29132 36@qq.com
关键词:

全球Q1笔记本电脑出货量同比增长81%!联想登顶

2021-06-01 10:25:03全球Q1笔记本电脑出货量同比增长81%!联想登顶

5G在韩国的普及率已达20%!2G服务即将彻底关闭

2021-05-31 10:29:485G在韩国的普及率已达20%!2G服务即将彻底关闭

“十三五”时期,我国大数据产业年均复合增长率超30%

2021-05-28 10:51:24“十三五”时期,我国大数据产业年均复合增长率超30%

小米手机第二季度有望超越苹果!2023年或将成为全球第一

2021-05-26 10:18:35小米手机第二季度有望超越苹果!2023年或将成为全球第一

1-4月我国出口笔记本电脑7135万台,同比增长72.3%

2021-05-25 09:32:061-4月我国出口笔记本电脑7135万台,同比增长72.3%

截至 4 月末,三大运营商 5G 手机终端连接数达到 3.1 亿户

2021-05-21 10:38:35截至 4 月末,三大运营商 5G 手机终端连接数达到 3.1 亿户

相关新闻