在三星、SK海力士开始启用EUV光刻机闪存内存芯片之后,美光现在也要加入了,跟ASML谈判采购EUV光刻机,2024年生产新的EUV内存芯片。
美光科技总裁兼首席执行官桑杰·梅赫罗特拉(Sanjay Mehrotra)在日前的财报会上表示,美光一直在关注EUV工艺进展,实际上之前也参与了EUV评估,一旦观察到EUV平台及生态系统成熟,美光也会在产品路线图中插入EUV光刻技术。
现在美光已将2021财年的治本指出略微提升到95亿美元,已经开始跟ASML公司谈判购买EUV光刻机,不过现在还没有公布细节,EUV现在供应紧张,台积电、三星采购的较多,美光还要等等。
根据美光的计划,EUV光刻工艺要到2024年才会导入,首发用于1-Gama工艺的内存,后面还会进一步扩展到更下一代的1-Delta工艺内存芯片中。
美光日前发布了2021财年Q3财报,截至6月3的季度中公司营收74.2亿美元,同比增长19%,净利润17.4亿美元,相比去年同期的8亿美元大涨116%。(作者:宪瑞)
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